ROSATOM KAMENNY-VEK OCSiAl SEMICONDUCTOR OTHER PRODUCTS
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02-2665-4577
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09:30 ~ 16:00
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09:30 ~ 16:00
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¢Ã ALD/CVD Precursors
- ALD/CVDÀÇ ÁõÂø °úÁ¤
- ALD/CVDÀÇMechanism
  • CVD(Chemical Vapor Deposition)
  • ALD(Atomic Layer Deposition)
- Á¦Ç°ÀÇ Á¾·ù
Abbr. Chemical formula V.P. at T
Al2O3 TMA Al(CH3)3 8.7 torr at 20 ¡É
HfO2 TEMAHf Hf[(C2H5)(CH3)N]4 1.2 torr at 60 ¡É
HfCl4 HfCl4 1 torr at 190 ¡É
ZrO2 TEMAHZr Zr[(C2H5)(CH3)N]4 1 torr at 70 ¡É
ZrCl4 ZrCl4 1 torr at 186 ¡É
TiN TiCl4 TiCl4 1 torr at 20 ¡É
TDMAT Ti[N(CH3)2]4 1 torr at 60 ¡É
TaN TaCl5 TaCl5 1 torr at 111 ¡É
±âŸ DEZ, DMCd, TEA, DMA etc.